Oxide(nlme)
Oxide()所属R语言包:nlme
Variability in Semiconductor Manufacturing
在半导体制造的变异
译者:生物统计家园网 机器人LoveR
描述----------Description----------
The Oxide data frame has 72 rows and 5 columns.
Oxide数据框有72行和第5列。
格式----------Format----------
This data frame contains the following columns:
这个数据框包含下列资料:
a factor with levels 1 and 2
同层次的因素1和2
a factor giving a unique identifier for each lot.
为每个地段的唯一标识符的一个因素。
a factor giving a unique identifier for each wafer within a lot.
一个因素,使很多内为每个晶圆的唯一标识符。
a factor with levels 1, 2, and 3
与水平的一个因素1,2和3
a numeric vector giving the thickness of the oxide layer.
数字向量,使氧化层的厚度。
Details
详情----------Details----------
These data are described in Littell et al. (1996, p. 155) as coming “from a passive data collection study in the semiconductor industry where the objective is to estimate the variance components to determine the assignable causes of the observed variability.” The observed response is the thickness of the oxide layer on silicon wafers, measured at three different sites of each of three wafers selected from each of eight lots sampled from the population of lots.
这些数据说明在Littell等。 (1996年,155页)来了“的目标是在半导体产业从一个被动的数据收集研究估计方差分量,以确定所观察到的变异可分配的原因。”所观察到的反应是厚度在硅片上的氧化层,在三个不同地点8大量从大量人口抽样选取的三个晶圆测量。
源----------Source----------
Pinheiro, J. C. and Bates, D. M. (2000), Mixed-Effects Models in S and S-PLUS, Springer, New York. (Appendix A.20)
皮涅罗JC和贝茨,DM(2000),在S,S-PLUS,施普林格,纽约混合效应模型。 (附录A.20)
Littell, R. C., Milliken, G. A., Stroup, W. W. and Wolfinger, R. D. (1996), SAS System for Mixed Models, SAS Institute, Cary, NC.
littell,钢筋混凝土,米利肯,遗传算法,斯特普,WW和Wolfinger,RD(1996),混合模型,SAS研究所,北卡罗来纳州Cary的SAS系统。
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